高考-牙體技術師牙體技術學（三）(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)103 年第 78 題單選題考點：時序與範圍錯誤考點：深度與漸層
活動局部義齒製作時，有關珠狀緣飾（beading）處理，下列敘述何者錯誤？
A在模型封凹（blockout）之前，上顎及下顎模型要先進行珠狀緣飾處理正確答案
B將主連結體（major connector）的外型做珠狀緣飾處理約為0.5 mm 深，朝向牙齦邊緣時將逐漸變得不明顯
C其目的為確保日後主連結體和組織間有真正接觸，可減少食物在主連結體下的積存（food impact）
D在上顎中腭縫（midpalatine raphe）或腭隆凸（palatal torus） 珠狀緣飾處理應不明顯或無
A正確答案
珠狀緣飾須依設計於模型邊緣施作，A稱封凹前上下顎模型皆先處理錯誤。
逐選項解析
A在模型封凹（blockout）之前，上顎及下顎模型要先進行珠狀緣飾處理時序與範圍錯誤✓ 正確
本敘述錯誤，故為答案。珠狀緣飾並非一律在封凹前對上下顎模型先行處理，而應依主連結體設計與模型條件，在預定邊緣區域施作。
B將主連結體（major connector）的外型做珠狀緣飾處理約為0.5 mm 深，朝向牙齦邊緣時將逐漸變得不明顯深度與漸層✕ 錯誤
此敘述正確。珠狀緣飾常沿主連結體外緣做成約0.5 mm深之淺溝，接近牙齦邊緣處應漸層淡化，避免明顯壓迫。
C其目的為確保日後主連結體和組織間有真正接觸，可減少食物在主連結體下的積存（food impact）✕ 錯誤
D在上顎中腭縫（midpalatine raphe）或腭隆凸（palatal torus） 珠狀緣飾處理應不明顯或無✕ 錯誤
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