共 10 類科共用卷 專技高考-專利師(選試專業英文及電子學)專技高考-專利師(選試專業英文及計算機結構)專技高考-專利師(選試專業英文及物理化學)專技高考-專利師(選試專業英文及生物技術)專技高考-專利師(選試專業英文及工程力學)專技高考-專利師(選試專業日文及電子學)專技高考-專利師(選試專業日文及計算機結構)專技高考-專利師(選試專業日文及物理化學)專技高考-專利師(選試專業日文及生物技術)專技高考-專利師(選試專業日文及工程力學)專利法規105 年第 7 題單選題下列關於專利申請之早期公開制度與實體審查之敘述,何者正確?A設計專利申請得準用專利法第37條所規定之早期公開制度B未自申請日後經過十八個月,發明專利申請人不得申請提早公開其申請案C發明專利申請日後三年內,除專利申請人外,任何人均得向經濟部智慧財產局申請實體審查D發明專利申請日後三年內,無人申請實體審查時,該發明專利申請案視為撤回正確答案 答案與詳解