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國營聯招 化學普通化學、無機化學11434單選題

有關以 15 族元素摻雜 Si 形成 n 型半導體的敘述,下列何者正確?

A價帶(valence band)中空穴(hole)濃度大增,費米能階(Fermi level)下移
B費米能階上移,靠近導帶(conduction band)正確答案
C能隙(band gap)顯著放大
D電子遷移率必定下降
答案與詳解
B
正確答案
摻雜15族元素會提供額外電子,形成n型半導體,使費米能階上移並靠近導帶。

為什麼答案是 B

摻雜15族元素形成 n型半導體,多數載子為電子,會在靠近導帶處形成施體能階,使費米能階上移靠近導帶。

考點:p型半導體特徵考點:n型半導體特徵考點:能隙特性考點:載子遷移率
載入中…

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黑皮