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高考-牙體技術師牙體技術學(三)(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)11049單選題

黏膜負擔及牙根-黏膜負擔的活動局部義齒基底外形線的設計,下列何者錯誤?

A義齒基底外形線的設計跟全口義齒同
B上顎需延長到鈎狀切跡(hamular notch)
C下顎頰棚由緻密骨組織所構成,義齒基底應避免覆蓋壓迫正確答案
D下顎義齒基底後緣要覆蓋至臼齒後墊(retromolar pad)之 2/3 以上
答案與詳解
C
正確答案
黏膜負擔型活動局部義齒基底外形線設計原則與全口義齒類似,但下顎頰棚區是主要受力區,應充分覆蓋以分散咬合力,而非避免覆蓋。

為什麼答案是 C

錯誤!下顎頰棚(buccal shelf)由緻密的皮質骨構成,與咬合力方向垂直,是下顎的『主要受力區』,義齒基底應『充分覆蓋』以分散咬合力,而非避免壓迫。本題為反向題,此即要選的答案。

考點:基底設計原則考點:上顎後緣延伸考點:頰棚受力區考點:下顎後緣延伸
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