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高考-牙體技術師牙體技術學(三)(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)11212單選題

在製作全口活動義齒個人印模牙托時,關於緩壓(relief)的敘述,下列何者錯誤?

A藉此可達到選擇性加壓的印模
B受到咬合力會痛的地方需緩壓
C下顎頰棚處需緩壓正確答案
D臼齒後墊需緩壓
答案與詳解
C
正確答案
緩壓用於避開受力易痛區;下顎頰棚是主要承壓區,反而不需緩壓。

為什麼答案是 C

下顎頰棚(buccal shelf)因骨皮質厚、與咬合力方向垂直,是下顎的『主要承壓區』,應確實施壓而非緩壓,故此敘述錯誤,為本題答案。

考點:選擇性加壓考點:不耐壓區緩壓考點:主要承壓區考點:臼齒後墊緩壓
載入中…

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