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高考-牙體技術師牙體技術學(三)(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)11433單選題

活動局部義齒 Korl 的 RPI 設計的敘述,下列何者最正確?

A導引面的面積較小,I bar 鈎尖偏向支柱牙之近心倒凹正確答案
B導引面的面積較大,I bar 鈎尖在支柱牙近遠心中央處
C導引面的面積較大,I bar 鈎尖偏向支柱牙之近心倒凹
D導引面的面積較小,I bar 鈎尖在支柱牙近遠心中央處
答案與詳解
A
正確答案
Kratochvil (Korl) RPI:導引面面積大、I-bar 鈎尖位於近遠心中央;Krol 版本則導引面小、I-bar 偏近心倒凹。

為什麼答案是 A

Krol 的 RPI 設計:導引面 (guiding plane) 範圍較小(僅佔近遠心寬度之中央 1/3、咬合面 1/2~2/3),I-bar 鈎尖位於支柱牙近心頰側倒凹,可在咬合時讓組件脫離支柱牙,減少扭力。

考點:Krol RPI考點:Kratochvil 設計考點:錯誤組合
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