積體電路是臺灣在科技業中的重要發展項目，關於積體電路的光學顯影過程下列何者正確？

符合半導體微影與蝕刻製程的標準順序：先沉積薄膜，塗佈光阻，經曝光與顯影定義出圖案，接著蝕刻未被光阻保護的薄膜，最後去除光阻。