台灣在科技業的重要發展項目為「積體電路(IC)」，其光學顯影過程的正確順序為何？
A塗上光阻→覆蓋薄膜→蝕刻→顯影→去除光阻
B覆蓋薄膜→塗上光阻→顯影→蝕刻→去除光阻正確答案
C覆蓋薄膜→塗上光阻→蝕刻→顯影→去除光阻
D塗上光阻→覆蓋薄膜→顯影→蝕刻→去除光阻
答案與詳解
為什麼答案是 B
完全符合微影製程的標準流程：先沉積薄膜，塗佈光阻後透過曝光與顯影定義圖案，接著蝕刻裸露的薄膜，最後去除光阻。
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完全符合微影製程的標準流程：先沉積薄膜，塗佈光阻後透過曝光與顯影定義圖案，接著蝕刻裸露的薄膜，最後去除光阻。
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