專技高考-醫事放射師放射線診斷原理與技術學107 年第 34 題單選題
降低下列參數可以減少電腦斷層攝影的輻射曝露劑量，何者除外？
D正確答案
降低 kVp、mAs、DLP 都會減少 CT 輻射劑量，但 pitch 是「提高」才會降低劑量，故選 D。
為什麼答案是 D
Pitch =床移動距離/光束寬度。Pitch 越大，重疊越少，劑量越低；故「降低」pitch 反而會「增加」劑量，與題意相反，為正解。
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完整詳解
Pro · 無限重點 降低 kVp、mAs、DLP 都會減少 CT 輻射劑量，但 pitch 是「提高」才會降低劑量，故選 D。
記口訣：kVp↓、mAs↓ → 劑量↓；但 pitch↑ → 劑量↓（pitch 與劑量成反比）
逐選項分析
A✕
kVp（管電壓）降低，X 光能量下降，輻射劑量大致與 kVp² 成正比，故降低 kVp 確實能有效減少劑量。
B✕
mAs（管電流×曝露時間）與輻射劑量成「線性正比」，降低 mAs 是最直接降劑量的方法，但會增加雜訊。
C✕ 陷阱
DLP（Dose Length Product, mGy·cm）本身就是劑量指標 = CTDIvol × 掃描長度，DLP 下降代表劑量下降，是「結果」而非「參數」，屬陷阱選項。
D✓ 正確
Pitch =床移動距離/光束寬度。Pitch 越大，重疊越少，劑量越低；故「降低」pitch 反而會「增加」劑量，與題意相反，為正解。
CT 參數與輻射劑量關係
| 參數 | 與劑量關係 | 降低該值對劑量影響 | 備註 |
|---|
| kVp | 約 kVp² 正比 | 劑量↓↓ | 影響對比與穿透力 |
| mAs | 線性正比 | 劑量↓ | 影響影像雜訊 |
| Pitch | 反比 | 劑量↑（反而增加） | 螺旋 CT 專有 |
| DLP | 劑量積分指標 | 劑量↓（本身即劑量） | = CTDIvol × L |
本題陷阱在 pitch 與劑量呈「反比」而非正比。多數參數降低會減少劑量，但 pitch 是例外——pitch 越高代表床移動越快、單位組織受照射時間越短，劑量反而下降。考生若慣性思考「降低=減少」就會中招。 
