下列何種酸可應用以去除矽晶片表層的 SiO₂ 氧化層？
AHF正確答案
BHCl
CHBr
DHI
EHClO₃
答案與詳解
逐選項解析
AHF✓ 正確
BHCl✕ 錯誤
HCl 為強酸，但 Cl⁻ 與 Si 或 SiO₂ 不形成穩定可溶性配合物，無法溶解 SiO₂ 氧化層。
CHBr✕ 錯誤
HBr 同屬鹵酸，Br⁻ 同樣無法與 SiO₂ 形成可溶性矽鹵配合物，無法去除氧化層。
DHI✕ 錯誤
EHClO₃✕ 易錯陷阱
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