下列何種酸可應用以去除矽晶片表層的 SiO₂ 氧化層？

HF 與 SiO₂ 反應：SiO₂ + 6HF → H₂SiF₆ + 2H₂O，生成可溶的六氟矽酸，能有效去除氧化層，是半導體製程標準用酸。