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高考-牙體技術師牙體技術學(三)(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)11132單選題

關於活動局部義齒工作用模型的製作,下列敘述何者正確?

A工作用模型的基底面不可與咬合平面平行
B模型的基底面厚度約為15mm
C以實用蠟(utility wax)進行圍盒時,圍蠟需離功能性印模的陰模邊緣至少5mm正確答案
D石膏灌入不可依照同一方向灌入
答案與詳解
C
正確答案
活動局部義齒工作模型製作中,圍蠟應離印模邊緣至少 5mm 以保留足夠延伸空間。

為什麼答案是 C

以 utility wax 圍盒時,圍蠟需距離功能性印模的陰模邊緣至少 5mm,確保模型邊緣有足夠延伸,完整呈現移行皺襞及周邊封閉區,為義齒延伸範圍之依據。

考點:基底面方向考點:模型厚度考點:圍盒距離考點:石膏灌注方向
載入中…

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