專技高考-牙醫師(一)牙醫學(二)(包括口腔病理學、牙科材料學、口腔微生物學、牙科藥理學等科目及其臨床相關知識)114 年第 40 題單選題考點:過敏主因考點:減敏處理
關於義齒基底樹脂的過敏或毒性說明,下列敘述何者錯誤?
A過敏反應通常由殘餘單體(residual monomer)所造成
B可以由浸泡水中達17小時來減少殘餘單體(residual monomer)
C殘餘單體(residual monomer)在血液中的半衰期約20~40小時正確答案
D操作者的接觸性皮膚炎也是對基底樹脂的一種過敏反應
C正確答案
義齒基底樹脂殘餘單體(MMA)是過敏主因,血中半衰期僅約20-40分鐘,非20-40小時。
逐選項解析
A過敏反應通常由殘餘單體(residual monomer)所造成過敏主因✕ 錯誤
正確敘述。聚合不完全的殘餘單體(residual MMA)會從義齒溶出至唾液,是造成口腔黏膜過敏與刺激的主要元兇。
B可以由浸泡水中達17小時來減少殘餘單體(residual monomer)減敏處理✕ 錯誤
正確敘述。義齒浸泡水中約17小時可讓殘餘單體擴散溶出,有效降低單體濃度,臨床上建議新義齒先泡水再戴用。
C殘餘單體(residual monomer)在血液中的半衰期約20~40小時✓ 正確
D操作者的接觸性皮膚炎也是對基底樹脂的一種過敏反應✕ 錯誤
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