組織內屏蔽塊（internal shielding）用於電子射束放射治療時，下列有關電子回散射（electron backscatter）劑量的敘述何者正確？
A隨電子射線能量增加而遞增
B回散射所在介面的電子能量若小於10 MeV，在軟組織中10%的回散射相對劑量影響範圍約為1 cm
C隨組織內屏蔽塊所用材質之原子序增加而遞減
D使用鉛為屏蔽材料時，若回散射所在介面的電子能量為5 MeV，則介面處的回散射相對劑量約為56%正確答案
答案與詳解
為什麼答案是 D
正確。依Klevenhagen經驗公式 EBF = 1 + 0.735·exp(−0.052·E)，代入鉛介面E=5 MeV，可得EBF≈1.566，意即介面劑量為入射劑量的156%，其中回散射貢獻約「56%」。
考點：能量反比考點：回散射範圍考點：原子序正比考點：Klevenhagen公式
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