有關可撤式局部義齒主模型的緩壓（relief）處理，下列何者錯誤？
A金屬義齒支架（metal framework）若跨越牙齦及牙齦溝處，需緩壓處理
B金屬義齒支架（metal framework）下方做緩壓處理，可留出空間提供樹脂基底附著
C使用低熔點鑄造蠟容易均勻貼附正確答案
D使用蠟刀將邊緣封好，以免複製模型時蠟片邊緣剝離
答案與詳解
為什麼答案是 C
錯誤！緩壓應使用「基板蠟(baseplate wax)」，質地軟、易適應貼附主模型；低熔點鑄造蠟(casting wax)雖薄但適用於蠟型製作，非緩壓用途，不易均勻貼附。
考點：跨齦緩壓考點：樹脂附著空間考點：蠟材選擇考點：邊緣封蠟
載入中…
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