專技高考-牙醫師(二)牙醫學(五)(包括全口贗復學、局部贗復學、牙冠牙橋學、咬合學等科目及其相關臨床實例與醫學倫理)112 年第 33 題單選題考點:跨齦緩壓考點:樹脂附著空間
有關可撤式局部義齒主模型的緩壓(relief)處理,下列何者錯誤?
A金屬義齒支架(metal framework)若跨越牙齦及牙齦溝處,需緩壓處理
B金屬義齒支架(metal framework)下方做緩壓處理,可留出空間提供樹脂基底附著
C使用低熔點鑄造蠟容易均勻貼附正確答案
D使用蠟刀將邊緣封好,以免複製模型時蠟片邊緣剝離
C正確答案
主模型緩壓用途在支架跨齦、樹脂附著處預留空間;應使用基板蠟(baseplate wax)非低熔點鑄造蠟。
逐選項解析
A金屬義齒支架(metal framework)若跨越牙齦及牙齦溝處,需緩壓處理跨齦緩壓✕ 錯誤
支架跨越牙齦及牙齦溝時,為避免壓迫軟組織造成疼痛或潰瘍,必須做緩壓處理,此為正確觀念。
B金屬義齒支架(metal framework)下方做緩壓處理,可留出空間提供樹脂基底附著樹脂附著空間✕ 錯誤
支架下方緩壓留出的空間,可讓樹脂基底(resin base)有足夠厚度附著於支架網狀結構(mesh/lattice)上,增加固位。
D使用蠟刀將邊緣封好,以免複製模型時蠟片邊緣剝離✕ 錯誤
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