關於以記錄基底（record base）與咬合蠟堤（occlusal wax rim）決定垂直咬合高度（vertical dimension of occlusion）的敘述，下列何者錯誤？
A發S音時，如果上、下蠟堤會相互撞擊，有可能是垂直咬合高度太高
B發S音時，如果上、下蠟堤會相互撞擊，有可能是記錄基底不穩
C如果蠟堤的位置與形態不對，會影響以發音法決定垂直咬合高度的正確性
D以發S音比以吞嚥法決定之垂直咬合高度較低正確答案
答案與詳解
為什麼答案是 D
錯誤敘述！發S音時上下牙接近但不接觸（最小發音間隙），此時VD與吞嚥法測得的VD「非常接近」，並非「較低」。兩者皆用於驗證VDO，數值大致相等。
考點：最小發音間隙考點：記錄基底穩定性考點：蠟堤形態考點：VD判定法比較
載入中…
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